Intel 10A 發表，1nm 製程鎖定2028 年後登場

Intel 10A：1nm 製程技術

Intel 宣布其最新的 Intel 10A「1nm 製程」，同時也透露相關計畫，目標鎖定在 2028 年之後推出，這代表 Intel 在技術發展上有可能領先於台灣半導體巨頭台積電，後者計劃在 2030 年推出 1nm 製程。

10A（1nm）製程細節

關於 Intel 的 10A 製程技術，除了預期將實現雙位數性能提升外，公司並未透露太多細節。我們可以期待與 14A 相比，性能增幅達20~30%，這對於 Intel Foundry 而言無疑是一項巨大成就，並可能標誌著公司在半導體市場的潛在回歸。

產能規劃與未來展望

特別引人注目的是晶圓廠產能（k-wspw）的介紹，其內容顯示 Intel 4、Intel 3、Intel 20A 和 Intel 18A 的產能預計將在 2026 年以後增加，但 Intel 14A 和 Intel 10A 的產能則是即使到了 2028 年後也可能保持較低產能。另外，所有 Intel 7 以後製程都都將採用極紫外光（EUV）技術。

Intel CEO Pat Gelsinger 表示，該公司特別關注 18A 製程技術，並宣稱他已將公司最佳人才投入到 1.8nm製程開發中。

Intel 的 10A（1nm）製程不僅展示公司在半導體製程技術上的雄心，也為其在全球晶圓廠市場的競爭地位提供堅實的基礎。隨著公司已經獲得了微軟價值 150 億美元的 18A 製程合約，可能會看到 Intel 的晶圓廠業務在未來幾年內與 TSMC 等同行競爭。

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